Plasma Source 플라즈마 챔버
2021.03.18 20:01
안녕하십니까. 반도체 업체에 근무하고 있는 회사원입니다.
다름이 아니라 플라즈마에 챔버에 대해 질문이 있어 이렇게 글을 올립니다.
플라즈마 챔버 설계를 진행하려 합니다.
혹시....... Gas를 NF3를 사용하게 되면 스테인리스 챔버로 제작를 진행해도 괜찮을까요?
아니면 알루미늄 챔버로 제작을 해야 하나요?
위 두가지 챔버 제작의 경우 사용 불가한 이유가 있으면 알고 싶습니다.
너무 궁긍하여 글을 올립니다.
답변 부탁드립니다.
댓글 2
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76779 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20229 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57178 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68721 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92407 |
| 551 |
전자 온도 구하기
[1]  | 1142 |
| 550 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1145 |
| 549 | 공정플라즈마 [1] | 1152 |
| 548 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1159 |
| 547 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1] | 1159 |
| 546 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1162 |
| 545 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
| 1164 |
| 544 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1166 |
| 543 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1170 |
| 542 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1182 |
| 541 | ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] | 1183 |
| 540 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1185 |
| 539 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1189 |
| 538 | RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] | 1198 |
| 537 | micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] | 1220 |
| 536 | 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] | 1239 |
| 535 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 1239 |
| 534 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1239 |
| 533 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1245 |
| 532 | Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] | 1246 |
챔버 재료 선택에 앞서 처리 대상인 공정을 좀 더 면밀하게 조사사실 필요가 있어 보입니다. 일반적으로는 식각 공정에 metal을 직접 노출시키지는 않으며 Al 챔버를 사용하는 이유는 열팽창/수축에 유리하기 때문입니다. 따라서 Al2O3 coating을 한 내벽 shroud 을 장착합니다. 화학반응+내열조건에 대해서 반드시 고려하셔야 하고, 진공 seal 과 전기적 접촉도 중요하다고 알고 있습니다. 참고가 되었으면 합니다.