Plasma Source 플라즈마 챔버

2021.03.18 20:01

도나츠바 조회 수:1257

안녕하십니까. 반도체 업체에 근무하고 있는 회사원입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마에 챔버에 대해 질문이 있어 이렇게 글을 올립니다.

 

플라즈마 챔버 설계를 진행하려 합니다.

 

혹시....... Gas를 NF3를 사용하게 되면 스테인리스 챔버로 제작를 진행해도 괜찮을까요? 

 

아니면 알루미늄 챔버로 제작을 해야 하나요?

 

위 두가지 챔버 제작의 경우 사용 불가한 이유가 있으면 알고 싶습니다.

 

너무 궁긍하여 글을 올립니다.

 

답변 부탁드립니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
557 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1132
556 wafer bias [1] 1138
555 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1139
554 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1142
553 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1143
552 자기 거울에 관하여 1145
551 전자 온도 구하기 [1] file 1148
550 Group Delay 문의드립니다. [1] 1151
549 공정플라즈마 [1] 1157
548 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1164
547 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1171
546 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1171
545 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1172
544 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1181
543 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1186
542 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1190
541 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1192
540 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1197
539 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1207
538 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1214

Boards


XE Login