CVD 설비에서 GENERATOR에서 온 AC POWER는 MATCHER를 거쳐 S/H로 공급되는데요

 

MATCHER ~ S/H간 연결 방식이 장비 MAKER마다 다른데 특별한 이유가 있나요?

 

어느 설비는 단단하게 고정된 CU, AG 재질을 쓰는 곳이 있고, 어느 설비는 얇은 끈, 전선같은 방식을 채택하기도 하던데

 

RF 전송 PATH의 굵기, 곡률(직각, 직선, 곡률이 있는경우), 재질과 같은 H/W적 요소가 IMPEDANCE MATHCING에 어떤 영향을 미치나요?

 

어떤 내용이나 자료를 공부하면 알 수 있나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103295
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24714
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73517
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105940
594 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase] [1] 1317
593 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1321
592 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1330
591 Collisional mean free path 문의… [MFP와 평균값 개념] [1] 1334
590 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1338
589 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1341
588 plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학] [1] 1342
587 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1343
586 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1364
585 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground] [1] file 1367
584 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1373
583 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp] [1] 1375
582 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1395
581 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion] [1] 1406
580 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1407
579 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1408
578 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 1409
577 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1410
576 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1410
575 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1411

Boards


XE Login