Others RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유
2022.07.08 16:18
안녕하세요. 최근 RF Power Reflect 감소를 위해 Plasma에 대해 공부하고 있는, 반도체 회사 직장인입니다.
다름이 아니라, RF Power의 Hunting성 Reflect를 감소하기 위해 Gas Flow를 Ramping 형식으로 평가한 자료를 보내되었습니다.
Gas를 이와 같이 점진적으로 증가시키며 Flow할 때와, 한번에 Set Flow를 했을 때
Plasma 형성의 차이와, 왜 이 같은 방식이 RF Power의 Hunting을 감소시키기 위한 방안인지에 대한 상관관계에 대해 궁금증이 생겨 글을 남기게 되었습니다.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76858 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20263 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57197 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68748 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92612 |
| 557 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1131 |
| 556 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1135 |
| 555 | wafer bias [1] | 1136 |
| 554 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1142 |
| 553 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1143 |
| 552 | 자기 거울에 관하여 | 1145 |
| 551 |
전자 온도 구하기
[1]  | 1147 |
| 550 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1150 |
| 549 | 공정플라즈마 [1] | 1156 |
| 548 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1163 |
| 547 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1171 |
| 546 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1171 |
| 545 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
| 1172 |
| 544 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1179 |
| 543 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1] | 1183 |
| 542 | ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] | 1186 |
| 541 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1191 |
| 540 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1192 |
| 539 | RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] | 1205 |
| 538 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1213 |