개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:57404 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [284] 77286
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20486
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68933
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92985
549 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1185
548 전자 온도 구하기 [1] file 1186
547 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1186
546 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1188
545 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1189
544 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1204
543 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1212
542 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1214
541 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1223
540 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1235
539 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1238
538 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1246
537 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1258
536 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1263
535 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1273
534 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1275
533 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1288
532 플라즈마 챔버 [2] 1296
531 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1299
530 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1300

Boards


XE Login