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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59310
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71050
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 98091
548 플라즈마 기초입니다 [Breakdown과 electrolysis] [1] 1401
547 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [베르누이 정리] [1] 1403
546 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [Wave guide 설계 및 matcher 설계] [1] 1419
545 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering] [1] 1421
544 전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과] [1] file 1424
543 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [국부 전기장 형성 및 reflect power] [2] 1425
542 RF Generator 주파주에 따른 Matcher Vms 변화 [주파수에 따른 임피던스 변화] [1] 1432
541 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [Skin depth, global model과 floating potential] [2] 1442
540 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [B-dot probe, plasma diagnostics] [1] 1443
539 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의] [1] 1444
538 잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드] [1] 1448
537 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1465
536 CCP챔버 접지 질문드립니다. [장치의 접지 일체화] [1] file 1480
535 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [플라즈마 전류량] [1] 1481
534 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [수소의 확산과 쉬스에 의한 가속] [4] 1485
533 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1488
532 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1497
531 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1498
530 수방전 플라즈마 살균 관련.. 문의 드립니다. [플라즈마 기술 센터 문의] [1] 1503
529 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1506
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