Matcher Impedence 위상관련 문의..
2017.06.30 04:39
안녕하세요. 전에도 몇번 질문드렸었습니다만,, 반도체 관련회사에서 근무하고 있습니다.
RF (ICP)장비를 다루고 있는데 impedence 위상관련해서 문의 좀 드리려고 합니다.
impedence 매칭은 저항과 위상으로 조정하데..
공정 parameter (Ar pressure , AC power 등)의 변화로 위상이 변화할수 있을까요?
변화된다면 어떤 이유로 변화되는지 조금 자세하게 설명을 듣고 싶습니다..
그리고 정말 죄송한데 smith chart program 을 사용하고 싶은데..도움 받을 site가 있을까요?
검색해서 찾아봐도 알수 없는 site로 이동이 되서...찾기가 어렵습니다만..
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76774 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20224 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57178 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68721 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92384 |
511 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1380 |
510 | Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] | 1389 |
509 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1390 |
508 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1390 |
507 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1395 |
506 | dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] | 1403 |
505 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1409 |
504 | poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. | 1413 |
503 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1425 |
502 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1427 |
501 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1428 |
500 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1431 |
499 | Ar plasma power/time [1] | 1437 |
498 | PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] | 1442 |
497 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1442 |
496 | 강의를 들을 수 없는건가요? [2] | 1449 |
495 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1452 |
494 | Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] | 1455 |
493 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1459 |
492 | rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] | 1461 |