안녕하세요, KAIST 핵융합 및 플라즈마 연구실 소속 석사과정 권대호입니다.

다름이 아니라, 저희 연구실에서 사용하는 CCP 장비에서 접지 관련으로 보이는 문제가 발견되어 질문 드립니다.


첨부한 사진과 같이 구성되어 있는 CCP 챔버에서, 상부전극에는 13.56MHz RF Power 를 인가하고, 하부전극은 수도관에 접지해두었습니다. 또한, 챔버역시 동일한 수도관에 연결하여 접지하여 연결하였습니다. (접지 연결은 동축케이블을 사용하였습니다.)


이후 RF Power 를 인가한 뒤 하부 전극의 전압을 오실로스코프로 측정할 때, 해당 전극을 접지하였음에도 불구하고 13.56MHz 신호가 관측이 되었습니다. 수도관 자체 및 챔버에서 또한 13.56MHz 신호가 관측되었습니다. 

처음에는 RF Power 가 제대로 차페되지 않아 생기는 문제로 추측하여 RF Power 또한 수도관에 접지하였으나 동일한 현상이 발생하였습니다. 또한, RF Power를 챔버에 연결하지 않았을 때는 RF Power 를 인가하는 경우에도 수도관 접지에서 신호가 발생하지 않았습니다.


RF Power 인가 후 관측된 13.56MHz 신호의 평균값은 항상 0V로 관측되었습니다. 또한 RF Power 의 크기를 늘릴 때마다 신호의 Vpp 값이 증가하는 것을 관측하였습니다. (RF Power 자체의 Vpp값은 측정장비가 없어 알 수 없는 상황입니다.)


위와 같은 관측을 했음에도 불구하고, CCP 장비 및 전기 장비에 대한 이해도 부족으로 적절하게 접지가 이뤄져 있는 지 조차 판단이 어렵습니다.

이에, 다음 두가지 사항을 질문드립니다.

1. 일반적으로 CCP를 접지하는 방법 혹은 PAL 에서 CCP를 접지하고 있는 방법

2. 위와 같은 구성에서 접지가 적절하게 이뤄져 있는지를 체크할 수 있는 방법


부디 조언 부탁드립니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77294
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20491
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57410
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68940
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92987
530 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1300
529 플라즈마 기초입니다 [1] 1302
528 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1323
527 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1328
526 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1335
525 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1344
524 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1351
» CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1352
522 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1373
521 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1377
520 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1378
519 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1380
518 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1385
517 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1400
516 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1401
515 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1407
514 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1411
513 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1414
512 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1419
511 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1427

Boards


XE Login