.반도체회사에서 pecvd 담당하고 있는 초보인데요. 궁금한게 몇개 있어 물어보겠습니다.

1.  pecvd 증착 후 wafer edge에 많은 defect을 해결하는 방법 (center는 깨끗함, edge에만 defect이 수없이 많음)

2. pecvd deposition 중  reflected power가  팅기는 현상으로 인해 두께가 낮아지거나 높아지는 현상이 있나요? 있다면 해결방법 알려주세요.

3. 한번 공정할때 wafer가 5장이 들어가는데 최대한 두께가 균일하게 증착할 방법이 있을까요? 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [255] 76401
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19989
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57065
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68537
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91251
494 Ar plasma power/time [1] 1412
493 plasma 형성 관계 [1] 1423
492 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1425
491 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1428
490 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1432
489 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1434
488 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1438
487 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1441
486 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1444
485 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1445
484 charge effect에 대해 [2] 1447
483 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1447
482 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1450
481 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1458
480 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1508
479 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1524
478 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1532
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1549
476 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1558
475 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1560

Boards


XE Login