Plasma in general 데포 중 RF VDC DROP 현상
2021.07.29 15:44
안녕하세요 반도체회사 장비 엔지니어입니다.
박막 과정 데포 중 RF VDC가 드랍 되는 현상이 있습니다. GAS양, CH 내 PRESSURE, 등등 변하는 것이 없는데 왜 갑자기 DROP 되는 걸까요?
영향을 줄만한 인자가 어떤 것이 있을까요? 장비를 잘 쓰다가 갑자기 DROP이 일어나고 그 이후는 다시 올라 오지 않습니다 ㅠ
2021.07.29 15:44
안녕하세요 반도체회사 장비 엔지니어입니다.
박막 과정 데포 중 RF VDC가 드랍 되는 현상이 있습니다. GAS양, CH 내 PRESSURE, 등등 변하는 것이 없는데 왜 갑자기 DROP 되는 걸까요?
영향을 줄만한 인자가 어떤 것이 있을까요? 장비를 잘 쓰다가 갑자기 DROP이 일어나고 그 이후는 다시 올라 오지 않습니다 ㅠ
저도 원인에 대한 확신은 없습니다. 다만, 관련되는 현상으로 floating electrode 표면에서 형성되는 bias을 Vdc라 하니, Vdc, 혹은 부유 전극에 selfbias가 형성되는 과정을 공부해 보시면 원인 해결에 실마리를 찾지 않을지요? 부유 조건이 만족하지 않으면 전하 충전에 의한 self bias가 형성되지 않습니다. 여기서 부유 전위라면 플라즈마와 대면하고 있는 시편의 부도체 coating 표면도 포함이 되니 이 점 참고하시어 기본 현상에서 원인을 찾아 보시기를 추천드립니다.