안녕하세요 교수님. 항상 친절한 답변 감사드립니다.

 

회사를 다니면서 공부를 하다보니 제가 부족한 부분이 많아 자꾸 찾아뵙게 되네요.

 

현재 염근영 교수님의 '플라즈마 식각기술' 이라는 책을 공부하고 있는데요.

 

읽다보니 간단한것 같은데 이유를 모르겠는게 있어서 문의 드립니다.

 

Pressure가 공정에 미치는 영향 중에 압력이 낮아지면 rf voltage가 높아진다고 나와있는데 그 이유가 궁금합니다.

 

그리고 이 전압이라함은 플라즈마와 전극 사이의 전압을 말하는건가요?

 

제가 전기쪽으로는 지식이 많이 부족해서 헷갈립니다 ㅜㅜ 

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76701
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20156
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68682
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92222
507 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1393
506 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1402
505 플라즈마 관련 교육 [1] 1402
504 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1407
503 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1409
502 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1419
501 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1419
500 MATCHER 발열 문제 [3] 1429
499 ICP lower power 와 RF bias [1] 1429
498 Ar plasma power/time [1] 1435
497 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1439
496 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1440
495 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1443
494 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1443
493 알고싶습니다 [1] 1450
492 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1452
491 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1455
490 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1457
489 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1463
488 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1463

Boards


XE Login