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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68897
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505 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1442
504 MATCHER 발열 문제 [3] 1447
503 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1450
502 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1450
501 Ar plasma power/time [1] 1455
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499 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1463
498 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1463
497 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1472
496 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1473
495 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1481
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492 charge effect에 대해 [2] 1499
491 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1503
490 ICP lower power 와 RF bias [1] 1503
489 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1507
488 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1518
487 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1536
486 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1545

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