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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [Wave guide 및 matcher position 변화]
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wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias]
[1] | 3873 |
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536 |
잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드]
[1] | 3875 |
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535 |
동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문
[1] | 3875 |
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534 |
RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp]
[1] | 3898 |
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anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘]
[1] | 3901 |
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플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응]
[1] | 3903 |
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531 |
플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature]
[1] | 3913 |
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530 |
Plasma Arching [Plasma property]
[1] | 3922 |
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ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation]
[1] | 3931 |
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528 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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527 |
RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating]
[1] | 3933 |
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526 |
RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization]
[1] | 3935 |
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525 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석]
[1] | 3942 |
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524 |
텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응]
[1] | 3945 |
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523 |
CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion]
[1]  | 3945 |
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PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher]
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다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma]
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520 |
ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법]
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519 |
RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law]
[1] | 3977 |
