|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[234]
| 75752 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 19439 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 56665 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 67998 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 90225 |
|
457 |
LF Power에의한 Ion Bombardment
[2] | 1669 |
|
456 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1670 |
|
455 |
압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다.
[1] | 1694 |
|
454 |
CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도
[1] | 1708 |
|
453 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
[1] | 1716 |
|
452 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1722 |
|
451 |
ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요??
[1] | 1727 |
|
450 |
Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 1730 |
|
449 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
[1] | 1733 |
|
448 |
안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다!
[1] | 1753 |
|
447 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1755 |
|
446 |
RF generator 관련 문의드립니다
[3] | 1760 |
|
445 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문
[1] | 1765 |
|
444 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 1787 |
|
443 |
RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다.
[1] | 1795 |
|
442 |
공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
| 1795 |
|
441 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1801 |
|
440 |
ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
[2] | 1812 |
|
439 |
플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다.
[1] | 1814 |
|
438 |
유도결합 플라즈마 소스 질문!!!?
[2] | 1816 |
