Chamber component 알고싶습니다
2020.09.09 11:31
안녕하세요. 반도체 장비부품쪽 업종에서 일을 하고 있습니다.
현재 Etch 장비를 Coating 후 1Cycle을 사용한 후 Particle Issue가 일어나 중간에 세정을 진행하여 장착하면 E/R값이 상승합니다.
E/R값을 잡기 위해서 세정후에 Coating면에 Plasma를 조사하면 어떨까 하는데 효과가 있을지가 궁금하고 E/R값이 전반적으로 어떤 것에 영향이 미치는지 궁금합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76871 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20273 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68751 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92694 |
497 | 강의를 들을 수 없는건가요? [2] | 1453 |
496 | Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] | 1458 |
495 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1462 |
494 | 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] | 1466 |
493 | RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. | 1467 |
492 | Impedence 위상관련 문의.. [1] | 1468 |
491 | rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] | 1468 |
» | 알고싶습니다 [1] | 1468 |
489 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1468 |
488 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1469 |
487 | charge effect에 대해 [2] | 1475 |
486 | 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] | 1509 |
485 | PECVD 증착에서 etching 관계 [1] | 1522 |
484 | glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] | 1522 |
483 | IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] | 1532 |
482 | 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] | 1536 |
481 | Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] | 1541 |
480 | plasma 형성 관계 [1] | 1548 |
479 | O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] | 1568 |
478 | 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] | 1608 |