저희는 PT 처리를 위해 CCP 플라즈마를 사용하고 있습니다.

약 -7승 정도의 진공도의 챔버에서 ITO세정용으로 플라즈마 처리를 하고 있습니다.

제가 궁금한 것은 먼저


1. 표시되는 압력의 의미가 궁금합니다. mTorr이 플라즈마 내부로 유입된 기체(질소)가 나타내는 압력을 의미하는 것 맞나요?

그렇다면 챔버 내 압력 = 플라즈마의 압력 이라고 봐도 무방할까요


2. self bias값이 파워(W)가 증가할수록, 압력(mTorr)이 낮아질수록 증가하는데 그 이유를 알고 싶습니다.


3. 나타나는 값중 position이라는 값이 있습니다. 평소에는 position 값이 100을 유지하다가 플라즈마 처리를 위해

기체를 유입하면 그 값이 떨어지고 일정한 값을 유지를 하는데 이 position이 무엇을 뜻하는지 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75427
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56479
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67556
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89368
448 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1683
447 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1683
446 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1692
445 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1710
444 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1713
443 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1748
442 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1756
441 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1766
440 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1770
439 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1777
438 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 1778
437 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1780
436 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1782
435 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1800
434 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 1817
433 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1822
432 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1822
431 가입인사드립니다. [1] 1854
430 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1864
429 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1877

Boards


XE Login