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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[220]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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428 |
doping type에 따른 ER 차이
[1] | 1893 |
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427 |
chamber impedance
[1] | 1910 |
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426 |
RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
[1] | 1912 |
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425 |
플라즈마 관련 기초지식
[1] | 1914 |
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424 |
[RIE] reactive, non-reactive ion의 역할
[1] | 1939 |
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423 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
[1] | 1940 |
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422 |
DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1945 |
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421 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1970 |
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420 |
플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 1974 |
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419 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계
[1] | 2006 |
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418 |
플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 2007 |
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417 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 2017 |
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416 |
etching에 관한 질문입니다.
[1] | 2038 |
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415 |
고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이
[1] | 2066 |
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교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
[2] | 2078 |
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413 |
임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[4] | 2084 |
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412 |
[Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련]
[3] | 2094 |
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411 |
CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다
[1] | 2097 |
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410 |
양극 코로나 방전에 대한 질문입니다.
[1] | 2102 |
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PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성....
[1] | 2109 |
