위의 해석이 메카니즘이며 선배님 권고가 맞습니다. (메카니즘에서 2차 전자는 일반적으로 플라즈마 이온에 의해서 혹은 가속 전자에 의해서 혹은 빛의 조사에서 전극 표면에서 방출되는 전자들을 2차전자라 합니다. 플라즈마내의 전자와 구분하는 말로, 플라즈마가 공간 상에서 생성되면 그것은 플라즈마 내의 전자이지 2차 전자의 개념을 넣지 않습니다. 방전에서 2차전자의 역할이 중요한 이유는 플라즈마 전극, 특히 음 전압이 걸린 전극 표면에서 입사 이온에 의해서 발생하며 이들은 전극의 전위에 의해서 플라즈마 쪽 (즉 반응기 내)으로 가속을 받아 (가속은 에너지를 얻었다는 말입니다) 중성입자들 (주입가스)과 충돌 하면서 이온화/해리/여기/ 등의 충돌 반응을 하여, 플라즈마 생성에 기여하는 인자이므로, 중요하게 봅니다. 이차전자는 물질과 주입 이온의 질량에 따라서 다른 값을 갖습니다. (이러한 설명은 본 게시판을 읽어 보면 자료가 충분히 있습니다)

다만 플라즈마 발생이란 생성되는 양과 소멸되는 양의 균형이 맞은 상태를 의미하는, 균형이 이뤄졌음을 의미함을 고려하면 현상을 관찰하는 것이 좋습니다. 또한 플라즈마에는 양전하의 이온과 음전하의 전자 및 대부분의 중성입자 (라디컬 포함) 등의 3가지 인자로 구성되어 있습니다. 전하 크기는 같으나 양/음으로 전기장에 반대 쪽의 힘을 받습니다. 중요한 것은 이들의 질량 차이기 매우 커서, 전자의 거동은 이온에 비해서 매우 신속하니, 이를 유동도(mobility)라 하고 전자의 유동도는 이온의 유동도에 비해서 매우 큽니다. 이들 운동을 염두에 두는데, 플라즈마는 전기적으로 중성, 즉 이온과 전자밀도가 거의 유사한 크기를 갖으려는 성질의 물질 상태임을 늘 고려하면서 플라즈마 바라 보는 것이 좋습니다.  

수식으로도 증명이 됩니다만, 개념적으로 생각해 보면 임피던스가 준다는 의미는 전도도가 커진다는 의미이고, 플라즈마 밀도가 높아지면 당연히 전도도는 증가하게 될 것입니다. 따라서 임피던스는 주는 경향을 보이겠지요. 하지만 플라즈마 밀도는 무한정 증가할 수 없으므로 임피던스 감소도 어떤 값에 수렴하게 될 것입니다. 플라즈마는 전도성은 가지고 polaization 성질도 갖는 dielectric material 로 가정해서 보아도 됩니다.