안녕하세요. 반도체 장비부품쪽 업종에서 일을 하고 있습니다.

 

현재 Etch 장비를 Coating 후 1Cycle을 사용한 후 Particle Issue가 일어나 중간에 세정을 진행하여 장착하면 E/R값이 상승합니다.

 

E/R값을 잡기 위해서 세정후에 Coating면에 Plasma를 조사하면 어떨까 하는데 효과가 있을지가 궁금하고 E/R값이 전반적으로 어떤 것에 영향이 미치는지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [311] 78980
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21186
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58004
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69556
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94250
502 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1540
501 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1540
500 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1545
499 Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching] [1] 1546
498 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1547
497 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1564
» 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1574
495 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응] [1] 1589
494 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1593
493 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 1596
492 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1612
491 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1620
490 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1622
489 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1629
488 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1640
487 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1652
486 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항] [2] 1680
485 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 1684
484 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1693
483 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 1693

Boards


XE Login