Chamber component 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터]

2020.09.09 11:31

알고싶어요알려주세요 조회 수:1836

안녕하세요. 반도체 장비부품쪽 업종에서 일을 하고 있습니다.

 

현재 Etch 장비를 Coating 후 1Cycle을 사용한 후 Particle Issue가 일어나 중간에 세정을 진행하여 장착하면 E/R값이 상승합니다.

 

E/R값을 잡기 위해서 세정후에 Coating면에 Plasma를 조사하면 어떨까 하는데 효과가 있을지가 궁금하고 E/R값이 전반적으로 어떤 것에 영향이 미치는지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103324
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24716
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61526
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73520
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105953
514 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1786
513 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1787
512 Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과] [1] 1792
511 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1794
510 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1808
509 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1817
508 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1823
507 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1834
» 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1836
505 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1848
504 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1853
503 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1856
502 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1869
501 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1875
500 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1881
499 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1882
498 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1902
497 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1909
496 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1917
495 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1918
쓰기
태그

Boards

XE Login