안녕하세요. 얼마전 특정공정 진행 시 특정 step을 진행하는 경우에만 간헐적으로 60Mhz Ref 및 Bias Voltage 튐 현상 관련하여

질문글을 올렸던 엔지니어 입니다.

 

먼저 좋은 답변을 달아주셔서 정말 감사합니다.

 

우선 60Mhz 동축케이블 길이조절은 해당 장비사의 Part가 정해져있어서 길이조절을 통한 Test가 어려운 상황입니다

나중에 한번 내용 참고하여 Action item으로 제시해봐야겠네요.

 

외에 우선 FDC를 봤을때 Mathcer TAP(공정 Step 별 고정 TAP값 사용)은 특이사항이 없었습니다.

60Mhz Requency의 경우 정상진행한 Slot들 Data에비해 산포가 불량한 점은 있었습니다.

 

제가 생각한 가설은 우선 Plasma가 생성되게되면 일정한 Ground가 유지되어야 Plasma 및 Bias Power도 균일하게 유지가 가능할 것이라고

생각이 됐고 의심이 가는 부분은 TOP Electrode의 식각 상태입니다.

해당 part가 RF Time 경시에 따라 식가이되면 표면이 매끄러운 초기상태에 비하여 식각이 진행되 상당히 불균일한 표면을 가지게 되는데

이러한점이 Electron의 Ground에 영향을 줘서 임피던스가 변하는게 아닐까 추정이 되는데 

 

제가 생각하는 부분에서 그럴 가능성이 있는지 잘 모르겠습니다...

 

이 외에도 Confinement Ring의 좌우 Balance 불량으로 인한 Plasma Unconfine이 발생할 가능성도 염두에 두고 있습니다.

 

현상이 간헐적으로 발생하고 있어 Action한 사항들 중 정확한 원인을 찾기 어려우나 해당 문제가 해결될 경우 다시 한 번 글을 올리도록 하겠습니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76636
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20141
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57144
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68666
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92109
467 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1700
466 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1712
465 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1729
464 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1737
463 터보펌프 에러관련 [1] 1750
462 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1766
461 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1784
460 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1801
459 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1827
458 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1829
457 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1834
456 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1838
455 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1839
» 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1857
453 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1867
452 가입인사드립니다. [1] 1880
451 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1884
450 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1891
449 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1895
448 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1905

Boards


XE Login