Etch Plasma 식각 test 관련 문의

2021.12.13 16:57

벅바 조회 수:3972

안녕하세요.

 

플라즈마 식각 중량변화 테스트를 O2가스와 NF3,AR(3:1) 비중으로 60분동안 200W전력 조건으로 

 

제품은 불소고무 O-RING 입니다.

 

할 수 있는곳이 있을까요?? 

 

도움 부탁드리겠습니다..

 

, , , , 이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
457 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1875
456 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1876
455 가입인사드립니다. [1] 1880
454 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1882
453 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1897
452 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1904
451 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1906
450 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1920
449 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1928
448 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1929
447 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1942
446 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1957
445 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1960
444 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1961
443 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1973
442 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1974
441 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1982
440 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1987
439 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 2010
438 chamber impedance [1] 2014
쓰기
태그

Boards

XE Login