ESC ESC Cooling gas 관련

2019.02.21 19:22

jake88 조회 수:3533

Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다

비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
449 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1908
448 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1912
447 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1914
446 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1937
445 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1944
444 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1950
443 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1955
442 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1955
441 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1963
440 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1973
439 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1983
438 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1984
437 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1989
436 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2006
435 chamber impedance [1] 2009
434 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2014
433 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2016
432 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2017
431 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2051
430 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2127
쓰기
태그

Boards

XE Login