교수님 안녕하세요.

 


1.
http://pal.snu.ac.kr/index.php?mid=board_qna_new&category=67497&document_srl=78754
(Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate)

 

글 두번째 문단에 '다음으로 플라즈마 밀도를 제어하기 위해서 edge ring 혹은 confinement ring 등을 써서 플라즈마 확산을 줄이고 있습니다.'
부분에 대해 질문드립니다.
→ edge ring 혹은 confinement ring을 통해 "플라즈마 확산을 줄여" 플라즈마 균일하게 밀도를 제어한다는 말씀이신데,

 

두번째 문단 '가운데 밀도는 비교적 높고 가장자리로 가면서 밀도는 떨어지게 됩니다.'
→ 가장자리로 갈수록 플라즈마 밀도가 떨어지는데,
"플라즈마 확산을 늘려야" 플라즈마 밀도를 균일하게 제어할 수 있는 것이라 생각해 이에 대해 질문드리고 싶습니다.


2. Edge Ring이 플라즈마 밀도의 균일성을 높이는 원리를 설명해주실 수 있을까요?

 

 

항상 이 곳에서 많은 도움을 받고, 공부하고 있습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20618
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57561
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69056
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93224
476 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1699
475 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1701
474 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1725
473 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1727
472 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1741
471 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1742
470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1749
469 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1756
468 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1766
467 터보펌프 에러관련 [1] 1799
466 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1808
465 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1814
» Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1851
463 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1881
462 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1882
461 가입인사드립니다. [1] 1885
460 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1894
459 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1898
458 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1919
457 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1924

Boards


XE Login