교수님, 안녕하세요.


반도체 회사에서 공정 개발을 하는 연구원입니다.

교수님께 ESC Chuck 의 활용(?) 에 관한 질문을 드리고자 글 남기게 되었습니다.


현재 ICP Coil 을 이용하여 reactant gas 를 radical 로 만들어서 wafer 위에서 반응을 유도하고 있습니다.

하지만, 현재 chamber 조건이 공정상 몇 가지 단점을 갖고 있어 이를 개선하려는 업무를 진행 중 의문이 생겼습니다.

개선을 위한 condition (온도, 압력) 에서는 화학흡착 즉, chemisorpsion 이 되지 않는 결과를 확인하였습니다.

(온도, 압력만 변화. 관련 논문도 확인)


이를 극복하는 방안으로, ESC Chuck 을 사용하여, radical 을 강하게 wafer 로 끌어오면 어떨가 하는데,

가장 큰 고민이, boosted radical 이 wafer 에서 물리적 가속외에 화학적 흡착에도 영향을 줄 수 있다는 근거를 찾기가 어렵습니다.


혹, 교수님께서 관련해서 조언해주실 수 있으시면 업무에 큰 도움이 될 것 같습니다.


감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] 74881
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18735
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56223
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66684
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 87991
357 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 2994
356 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 3064
355 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3081
354 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3126
353 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3132
352 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3138
351 Descum 관련 문의 사항. [1] 3153
350 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3180
349 ESC Cooling gas 관련 [1] 3213
348 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3284
347 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3331
346 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3358
345 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3373
344 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 3378
343 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3429
342 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3474
341 플라즈마 색 관찰 [1] 3571
340 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3749
339 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3770
338 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3810

Boards


XE Login