안녕하세요. 카이스트에서 석사 1년차로 있는 대학원생입니다.

 

Single probe로 electron energy probability distribution을 구할 때, low energy electron은 bulk plasma에서 평형 상태에 도달한 전자들을 지칭하고 high energy electron은 cathode에서 방출되고 probe sheath를 통해 bulk plasma로 가속되는 전자들을 지칭하는 것으로 알고 있습니다.

 

이 두 그룹의 전자들을 구분할 수 있는 식이 따로 있는지 궁금합니다. 실험을 통해 얻은 EEPF에서 몇 eV부터 몇 eV까지는 low energy electrons이고 몇 eV부터 몇 eV까지는 high electrons이다 라는 형태의 답을 얻고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
429 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2128
428 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2173
427 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2222
426 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2228
425 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2234
424 플라즈마볼 제작시 [1] file 2236
423 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2239
422 etching에 관한 질문입니다. [1] 2261
421 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2263
420 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270
419 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2281
418 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2306
417 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2313
416 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2314
415 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2314
414 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2315
413 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2316
412 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2318
411 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2320
410 Wafer particle 성분 분석 [1] 2321

Boards


XE Login