Matcher RF 파워서플라이 매칭 문제

2022.07.21 23:00

김현기 조회 수:1022

안녕하세요? 현재 연구실에서 반응성 스퍼터링으로 TiO2 박막을 실험하고 있습니다.

연구실에서 사용하는 RF스퍼터 장비에는 오토매처가 있어 파워 인가 시 자동으로 임피던스 매칭을 수행합니다.

매처는 일반적인 장비로써 Load/Tune capacitor가 내장되어있습니다.

 

현재 RF 파워의 매칭 시간이 너무 긴 문제가 있습니다.

매칭이야 조건을 찾는 과정이니 시간이 걸릴 수 있겠지만, 매칭 시간만 1시간이 넘게 걸리고, 무엇보다 공정 조건이 같은데도 매칭이 이루어지는데 점점 오래 걸리고 있습니다.

 

반응 가스는 고순도 O2를 사용 중에 있으며, 순도는 용접용이어서 낮지 않습니다.

만일 매칭에 방해가 되는 요인이 있다면 어떤 요인이 있는 지 알고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103334
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24717
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61527
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73521
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105953
814 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 377
813 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 383
812 DC Arc Plasma Torch 관련 문의 [1] 384
811 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 400
810 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 402
809 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 406
808 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 409
807 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 416
806 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 417
805 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 420
804 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마] [1] file 424
803 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 425
802 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 426
801 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 429
800 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 430
799 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 433
798 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 436
797 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 441
796 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 443
795 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 451

Boards


XE Login