안녕하세요.

 

Etching과 Deposition을 같이 최근에 공부를 시작하고 있는 회사원입니다.

다름이 아니라, 

   최근 기사에서 LCD->OLED로 넘어가는 과정에서 OLED 특성상(유기발광체 때문??) SF6를 NF3로 대체가 어렵다는

   내용의 기사를 봤습니다.

 

질문은

   1. OLED에서 SF6는 어느공정(Etching / Chamber Cleaning / ??)에 주로 사용되나요?

   2. SF6를 NF3로 대체할 수 있는 이유는 뭔가요?

   3. CF4도 사용되는 것으로 아는데, 어느공정에 주로 사용되나요?

 

고수님들의 답변 부탁드립니다.

가지고 계신 문헌과 특허라도 알려주시면 크게 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76973
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20329
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57248
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68799
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92791
781 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 128
780 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 129
779 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 140
778 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 144
777 Microwave & RF Plasma [1] 145
776 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 149
775 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 156
774 corona model에 대한 질문입니다. [1] 172
773 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 174
772 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 174
771 ICP에서 전자의 가속 [1] 175
770 skin depth에 대한 이해 [1] 183
769 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 189
768 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 192
767 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 197
766 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] 198
765 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 207
764 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 209
763 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 212
762 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 214

Boards


XE Login