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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭]
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437 |
N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]
[1] | 4575 |
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436 |
Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어]
[1] | 4589 |
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435 |
ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
[1] | 4594 |
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434 |
chamber impedance [장비 임피던스 데이터]
[1] | 4609 |
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433 |
부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해]
[1] | 4612 |
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432 |
RIE에 관한 질문이 있습니다. [Sheath 이온 거동 및 bias power]
[1] | 4645 |
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431 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath]
[1] | 4699 |
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430 |
플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge]
[1] | 4701 |
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429 |
Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion]
[1] | 4713 |
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428 |
HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다.
[2] | 4787 |
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427 |
안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수]
[2] | 4788 |
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426 |
doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구]
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425 |
산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응]
[1] | 4818 |
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424 |
Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위]
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423 |
PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착]
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교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode]
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421 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술]
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420 |
Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching]
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419 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux]
[1] | 4846 |
