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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다.
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플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [Ionization collision 및 Effective ionization energy]
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EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy]
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플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [대기압 플라즈마와 라디컬 생성]
[1] | 5005 |
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Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load]
[1] | 5026 |
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RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma]
[1] | 5030 |
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CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다. [플라즈마 특성변화와 SH impedance 변화]
[1] | 5034 |
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PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAT <-> STAGE HEATER 간 GAP과 DEPO 막질의 THK와의 연관성…. [Plasma property와 process control]
[1] | 5048 |
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OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산]
[1] | 5066 |
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전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation]
[1] | 5081 |
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matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance]
[3] | 5092 |
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HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Depostion Rate 감소 현상 문의 [전자의 에너지와 중성입자와의 충돌]
[1] | 5104 |
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the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [Ideal MHD plasma의 magnetic flux conservation]
[1]  | 5106 |
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[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자]
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CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선]
[1] | 5184 |
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안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스]
[1] | 5191 |
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Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization]
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임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching]
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400 |
LF Power에의한 Ion Bombardment [플라즈마 장비 물리]
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N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델]
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