안녕하세요~

저는 분석장비 판매 회사에 다니고 있습니다.

저희장비중에 3000도까지 올리는 유도가열로가있는데 이 장비는 챔버안에 유도코일이있고 그 가운데에 그라파이트 도가니를 넣습니다. 도가니 안에는 그라파이트 파우더가 들어가있구요.

그리고 챔버 커버를 다 닫은 후 처음에는 진공을 잡습니다. 약 2.8 x10-2까지 그리고 나서 아르곤 가스를 넣어주는데 약 30분정도 흘려주고 히팅을 시작하는데 이때 플라즈마 현상이 발생하고 파워가 현저히 떨어지는것을 볼수 있습니다.

정상동작이라면 이 플라즈마가 없어야 되는데...이 플라즈마가 발생하게되어 장비를 사용못하고 있는 상태입니다.

원인이 진공상태에서 히팅을 가해서 그런가 생각되어 챔버내 아르곤 가스 량을 측정해보았으나 아르곤 압력은 약 0.035Mpa정도 나왔습니다. 또한 그라파이트 파우더가 코일과 주변부를 오염시켜 쇼트 문제인가 해서 챔버도 닦아 봤지만 여전히 같은 현상이 발생합니다.

이 플라즈마 현상이 왜 발생하는지 원인을 알수있을까 해서 이렇게 문의를 드립니다.

감사합니다.

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [218] 75407
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19148
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56477
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67534
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89320
328 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 5243
327 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5454
326 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 5486
325 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5581
324 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5587
323 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5630
322 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5815
321 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5832
320 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5874
319 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6068
318 자료 요청드립니다. [1] 6141
317 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6173
316 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6293
315 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6304
314 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6353
313 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6380
312 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6381
311 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6386
310 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6424
309 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6434

Boards


XE Login