안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77242
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57374
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68904
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
326 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5975
325 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 6010
324 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6107
323 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6122
322 자료 요청드립니다. [1] 6214
321 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6318
320 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6323
319 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6335
318 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6376
317 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6413
316 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6422
315 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6468
314 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6470
313 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6479
312 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6504
311 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6516
310 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6543
309 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6573
308 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6720
307 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6834

Boards


XE Login