안녕하세요 세종대학교에 재학중인 학부생 김지현 입니다.

저는 방학동안에 연구실에서 실험을 배우는 중입니다. 저희 연구실은 그래핀에 대해 연구하는 곳입니다.

제가 photo lithography를 배우는 과정중에  산소 플라즈마 처리를 사용하는데, 플라즈마가 무엇인지 궁금하여 공부중입니다.

plasma etching에 대해 찾아보던중에 사용하는 기체들이 용도에 따라서 다른데 그 차이점들을 알고 싶습니다,

그래핀을 O2 플라즈마에서 처리하는데 왜 O2를 사용하는지 궁금합니다. 즉 O2플라즈마의 특성에 대해 궁금합니다. 

그리고 질소플라즈마와 아르곤 플라즈마의 특성과 차이점이 무엇인지 궁금합니다. 

질문이 다소 복잡해서 다시 정리하자면 플라즈마 에칭 공정을 할때 용도에 따라 다른 기체들을 사용하는데, 어떠한 특성때문에 

다른지 궁금합니다. 


감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77208
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57361
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92946
326 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5974
325 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 6006
324 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6101
323 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6120
322 자료 요청드립니다. [1] 6214
321 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6316
320 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6317
» O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6326
318 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6374
317 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6413
316 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6422
315 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6467
314 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6467
313 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6479
312 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6504
311 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6514
310 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6543
309 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6573
308 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6715
307 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6825

Boards


XE Login