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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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DRAM과 NAND 에칭 공정의 차이 ["플라즈마 식각 기술"]
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챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건]
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RF calibration에 대해 질문드립니다.
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RF Vpp관련하여 문의드립니다. [Self bias와 플라즈마 쉬스]
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SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [반응성 기체 생성]
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ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절]
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공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [공동형 토치의 운전법 및 방전특성이해]
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자료 요청드립니다.
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액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문 드립니다! [플라즈마 발생 방식과 성질]
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모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의
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플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구]
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안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [VI probe]
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안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성]
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플라즈마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [Plasma 이온화]
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저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ
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안녕하세요, 질문드립니다. [플라즈마 토치와 환경처리]
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플라즈마 데미지에 관하여.. [Charge의 축적과 damage]
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플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매커니즘 문의.. [플라즈마 leak와 국부방전]
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O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure]
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Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화]
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