1/2 컵의물을 고열증발코저 합니다.
인터넷이나 관련자료를 확인해보니 마그네트론관에의한
극초고주파로 전자운동에의해 고열증발 할수있다고 하는데
기존 사용중인 전자레인지의 마그네트론관은 크기및전력량이
너무커서 소형 마그네트론관이있으면 소개부탁드리고요
또는 마그네트론관 외에 새로운 소자가개발되어 있으면
소개 부탁드립니다.
만약 소형마그네트론관(1/2 컵 정도 물을 끓일수있는)이 있으면
인가되어지는 고압발생 전원장치는 smps 방식으로 소형화제작
가능합니다.
부디 해답바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103236
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24702
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61502
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73514
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105928
313 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [물리적/화학적 세정] [4] 6994
312 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport] [1] file 7031
311 저온플라즈마에 관해서 [플라즈마 방전의 특성] [1] 7092
310 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [표면 화학 반응] [2] 7261
309 ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성] [1] 7558
308 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전] [1] 7936
307 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의] [1] 7963
306 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG] [2] 8011
305 MFP에 대해서.. [Collisional cross section] [1] 8089
304 정전척 isolation문의 입니다. [Paschen's law와 절연파괴현상] [1] 8112
303 고온 플라즈마 관련 8160
302 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 8200
301 플라즈마 발생 억제 문의 [Induction field와 breakdown] [1] 8298
300 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 8301
299 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [플라즈마 밀도와 중성 가스의 균일도] [1] 8372
298 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [DBD와 플라즈마 방전 메커니즘] [1] 8381
297 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [Electron Temperature와 Excitation Temperature] [1] 8416
296 핵융합에 대하여 [상온 핵융합 관련 연구 동향] 8648
295 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8749
294 Microwave 장비 관련 질문 [RF Plasma의 주파수에 따른 파장의 길이] [1] 8832

Boards


XE Login