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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73479
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105839
313 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [물리적/화학적 세정] [4] 6982
312 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport] [1] file 7005
311 저온플라즈마에 관해서 [플라즈마 방전의 특성] [1] 7084
310 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [표면 화학 반응] [2] 7248
309 ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성] [1] 7556
308 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전] [1] 7935
307 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의] [1] 7963
306 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG] [2] 7999
305 MFP에 대해서.. [Collisional cross section] [1] 8088
304 정전척 isolation문의 입니다. [Paschen's law와 절연파괴현상] [1] 8106
303 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 8123
302 고온 플라즈마 관련 8160
301 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 8272
300 플라즈마 발생 억제 문의 [Induction field와 breakdown] [1] 8297
299 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [플라즈마 밀도와 중성 가스의 균일도] [1] 8372
298 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [DBD와 플라즈마 방전 메커니즘] [1] 8381
297 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [Electron Temperature와 Excitation Temperature] [1] 8413
296 핵융합에 대하여 [상온 핵융합 관련 연구 동향] 8639
295 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8749
294 Microwave 장비 관련 질문 [RF Plasma의 주파수에 따른 파장의 길이] [1] 8831
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