Others 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용

2004.06.19 16:42

관리자 조회 수:16182 추천:254

만일 플라즈마의 on/off 상태를 알 고자 함이면 일반적인 CCD 카메라를 이용해서
감시할 수 있을 것이며 특별할 상태의 빛 파장대를 관찰하고자 한다면 이 주파수에
맞는 lenz와 filter등을 이용한 CCD를 사용하여야 합니다. 혹은 corona streamer
등을 측정하고자 한다면 수 mirosec의 변화를 관찰할 수 있는 intensified CCD를
사용하게 됩니다. 이때는 CCD의 time resolution이 문제가 되니 이점을 잘 고려
하여야 할 것입니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102675
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24671
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61379
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73452
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105773
313 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [Reaction rate 및 reaction rate coefficient] [1] file 6973
312 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport] [1] file 6992
311 저온플라즈마에 관해서 [플라즈마 방전의 특성] [1] 7080
310 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [표면 화학 반응] [2] 7236
309 ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성] [1] 7556
308 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전] [1] 7935
307 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의] [1] 7963
306 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG] [2] 7995
305 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 8078
304 MFP에 대해서.. [Collisional cross section] [1] 8085
303 정전척 isolation문의 입니다. [Paschen's law와 절연파괴현상] [1] 8101
302 고온 플라즈마 관련 8160
301 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 8263
300 플라즈마 발생 억제 문의 [Induction field와 breakdown] [1] 8297
299 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [플라즈마 밀도와 중성 가스의 균일도] [1] 8371
298 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [DBD와 플라즈마 방전 메커니즘] [1] 8380
297 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [Electron Temperature와 Excitation Temperature] [1] 8411
296 핵융합에 대하여 [상온 핵융합 관련 연구 동향] 8638
295 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8749
294 Microwave 장비 관련 질문 [RF Plasma의 주파수에 따른 파장의 길이] [1] 8828
쓰기
태그

Boards

XE Login