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273 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [플라즈마의 유지와 쉬스] [1] 10845
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269 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [쉬스 전위 및 플라즈마 세정] [1] 12572
268 matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 12951
267 반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하] 12983
266 ICP와 CCP의 차이 [Self bias와 Maxwellian distribution] [3] 13214
265 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc)+Vp(plasma potential)관련 질문입니다. [플라즈마 전위와 쉬스] [1] 13220
264 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. [플라즈마 영향 인자] 13362
263 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [플라즈마 형성 과정과 파센의 법칙] [1] 13860
262 플라즈마의 상태 14260
261 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [반도체 공동 연구소] [1] 14407
260 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [ESC와 matcher] [1] 14497
259 냉각수에 의한 Power Leak [Density와 Power] 14582
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