Matcher CURRENT PATH로 인한 아킹

2023.08.22 11:19

생렬 조회 수:391

안녕하세요.교수님

 

이번에 설비사에서 Matcher Plate에 Matcher를 장착할 때 Plate와 Matcher 바닥면 사이 약간의 유격이 있는 상태에서 볼트로 체결하고 RF Power 13.56MHz 2kW 인가 해서 Output 커넥터(20PI 소캣타입)에 아킹이 발생 하였습니다. (크리피지 길이는 충분합니다.)

볼트로 체결하면서 Plate와 Matcher 사이는 완전이 붙었다곤 하지만 제생각엔 완전 면접촉 상태가 아니고 점접촉 상태에서 CURRENT PATH 때문에 아킹이 발생 한 것 같은데 이 원리를 이론적으로 잘 모르겠더라구요..

 

답변 부탁드립니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76737
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92282
749 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 273
748 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 291
747 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 309
746 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 311
745 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 316
744 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 317
743 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 319
742 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 320
741 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 331
740 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 341
739 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 345
738 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 348
737 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 353
736 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 354
735 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 357
734 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 364
733 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 366
732 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 373
731 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 373
730 plasma modeling 관련 질문 [1] 387

Boards


XE Login