안녕하세요 저는 현재 PECVD 장비를 사용하는 연구원입니다.

 

어플라이드社의 PRODUCER-S 설비로 ACL 공정을 Set-up하고 있습니다.

 

Unif를 잡기위해서 압려과 RF Power를 건드려 가며 조정 중에 있는데

 

RF Ref가 어떤 조건에서는 높게 뜨고 어떤 조건에서는 낮게 뜨는데 어떤 조건이 영향을 미칠까요?

 

알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77004
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20344
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57267
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68811
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92810
238 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 490
237 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 492
236 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 493
235 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 503
234 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 521
233 self bias [1] 547
232 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 554
231 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 570
230 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 590
229 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 599
228 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 601
227 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 603
» Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 603
225 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 610
224 plasma 공정 중 색변화 [1] 656
223 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 675
222 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 690
221 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 693
220 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 705
219 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 710

Boards


XE Login