Etch RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요?

2023.08.29 11:26

윤성 조회 수:292

RIE(13.56Mhz) 설비 SET UP 도중 압력 0.2 Torr Gas SF6 30 Sccm 공정 조건에서 Matcher가 Matching position 을 잡지 못하고 흔들리는 현상으로 Matcher circuit에 Low pass filter 장착 후 그 현상이 사라 졌습니다.

혹시 이 현상에 대한 원리에 대해 답변 주시면 너무 감사하겠습니다.

RF 300W 기준입니다. 부탁드리겠습니다.

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [272] 76805
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20240
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57185
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92559
752 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 251
751 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 258
750 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 258
749 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 273
» RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 292
747 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 311
746 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 314
745 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 318
744 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 319
743 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 322
742 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 323
741 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 337
740 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 342
739 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 350
738 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 352
737 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 356
736 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 360
735 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 361
734 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 367
733 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 376
쓰기
태그

Boards

XE Login