안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 101823
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24443
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61091
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73132
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105284
793 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 433
792 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 434
791 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 444
790 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 446
789 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 447
788 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 448
787 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 450
786 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 454
785 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 455
784 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 458
783 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 465
782 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 466
781 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 467
780 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 470
779 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 494
778 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate] [1] 510
777 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 519
776 chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성] [1] 530
775 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상] [1] 535
774 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] [1] file 536

Boards


XE Login