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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[102]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 28052 |
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플라즈마를 이용한 오존 발생장치
| 28407 |
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반도체 관련 질문입니다.
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플라즈마 밀도
| 28795 |
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[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
 | 29007 |
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PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건
| 29020 |
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matching box에 관한 질문
[1] | 29165 |
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물질내에서 전하의 이동시간
| 29270 |
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DC Bias Vs Self bias
[5] | 30338 |
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ICP 플라즈마에 관해서
[2] | 30556 |
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RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
| 30960 |
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대기압 플라즈마
| 33555 |
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ECR plasma 장비관련 질문입니다.
[2] | 34241 |
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16 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
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RF frequency와 RF power 구분
| 34655 |
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14 |
Self Bias
| 35808 |
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Ground에 대하여
| 37309 |
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 40193 |
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플라즈마내에서의 아킹
| 43062 |
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안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
[1] | 46213 |
