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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[235]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다.
[1] | 21436 |
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스퍼터링시 시편두께와 박막두께
[1] | 21463 |
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상압 플라즈마 관련 문의입니다.
[1] | 21476 |
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대기압플라즈마를 이용한 세정장치
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manetically enhanced plasmas
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glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
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플라즈마내의 전자 속도
[1] | 21789 |
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펄스바이어스 스퍼터링 답변
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플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
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플라즈마의 발생과 ICP
| 21998 |
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플라즈마 코팅에 관하여
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Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22162 |
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Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22483 |
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Peak RF Voltage의 의미
| 22487 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22538 |
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pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22549 |
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[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22618 |
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Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22624 |
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CCP/ICP , E/H mode
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floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[2] | 22790 |
