Remote Plasma Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유
2023.12.18 02:36
안녕하세요.
Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!
Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는
전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?
400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?
감사합니다!
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76864 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20265 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57197 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68750 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92666 |
117 | 이온주입량에 대한 문의 | 20739 |
116 | IEDF EQP에 대한 답변 | 20808 |
115 | plasma cleanning에 관하여.... | 20839 |
114 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20915 |
113 | RF plasma에 대해서 질문드립니다. [2] | 20974 |
112 | 대기압플라즈마 진단 | 21025 |
111 | 플라즈마란? | 21061 |
110 | 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] | 21112 |
109 | ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] | 21200 |
108 | Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용 | 21322 |
107 | 플라즈마 측정기 [1] | 21334 |
106 | 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서... [1] | 21334 |
105 | 플라즈마 실험 | 21350 |
104 | Breakdown에 대해 | 21383 |
103 | CCP 에서 Area effect(면적) ? | 21408 |
102 | 47th American Vacuum Society International Symposium 2000 | 21425 |
101 | 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] | 21515 |
100 | F/S (Faraday Shield) | 21520 |
99 | ccp-icp | 21523 |
98 | 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 | 21542 |
낮은 주파수를 사용하면 방전 안전성과 전원 매치의 이득이 클 것 같습니다. 하지만 이온 스퍼터링의 문제는 증가하여 관리에 신중해야 할 것 같습니다. 본 게시판에서 remote plasma을 찾아 보시면 좀 더 정보를 얻으실 수 있으실 것 같네요.