번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76636
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20141
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57144
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68666
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92109
87 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22236
86 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22538
85 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22575
84 Peak RF Voltage의 의미 22593
83 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22613
82 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22690
81 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22757
80 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22845
79 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22936
78 CCP/ICP , E/H mode 22956
77 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23050
76 No. of antenna coil turns for ICP 23089
75 고온플라즈마와 저온플라즈마 23116
74 DC glow discharge 23240
73 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23258
72 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23325
71 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23376
70 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23436
69 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23752
68 Arcing 23780

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