ESC Dry Etcher 내 reflect 현상

2009.08.07 13:39

김기권 조회 수:22243 추천:209

안녕하세요 저는 Dry Etcher 네 세라믹 Coating Type 정전척 ESC 만드는 회사에 다니고 있습니다.
다름이 아니라 고객사에서 Dry Etcher 장비 의 Reflect현상이 발생했다고 하는데 , 이현상에 대해 설명 부탁드립니다.
아울러 이 현상과 ESC 연관성에 대해서도 설명 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76791
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20229
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68723
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92445
91 플라즈마 코팅에 관하여 22093
90 질문있습니다 교수님 [1] 22136
89 플라즈마의 발생과 ICP 22140
88 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 22143
» Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22243
86 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22544
85 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22579
84 Peak RF Voltage의 의미 22611
83 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22620
82 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22700
81 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22769
80 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22853
79 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22945
78 CCP/ICP , E/H mode 22996
77 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23073
76 No. of antenna coil turns for ICP 23100
75 고온플라즈마와 저온플라즈마 23132
74 DC glow discharge 23249
73 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23265
72 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23334

Boards


XE Login