번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76636
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20141
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57144
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68666
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92110
67 플라즈마 쉬스 23930
66 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23968
65 self Bias voltage 24021
64 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24120
63 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24169
62 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24295
61 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24316
60 플라즈마가 불안정한대요.. 24512
59 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24546
58 plasma와 arc의 차이는? 24610
57 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24640
56 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24742
55 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24770
54 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24843
53 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24866
52 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24981
51 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25580
50 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26084
49 충돌단면적에 관하여 [2] 26146
48 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26172

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