번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77207
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57361
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92946
86 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22563
85 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22586
84 Peak RF Voltage의 의미 22635
83 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22642
82 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22716
81 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22810
80 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22862
79 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22957
78 CCP/ICP , E/H mode 23112
77 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23123
76 No. of antenna coil turns for ICP 23133
75 고온플라즈마와 저온플라즈마 23194
74 DC glow discharge 23282
73 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23282
72 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23350
71 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23432
70 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23480
69 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23790
68 Arcing 23878
67 플라즈마 쉬스 23990

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