안녕하세요?

플라즈마 응용연구실 인원 여러분

저는 성대 박사과정으로 있는 박형식이라고 합니다.

다름이 아니오라 제가 새벽에 실험 중에 갑작스런 현상이 발생한 것에 대해 궁금한 것이 이렇게 질문을 하게 되었습니다.

제가 스퍼터에 대해 실험 중에 DC 파워를 인가하는 중에 DC 파워 디스플레이에 high impedance란 메시지가 떴습니다.

혹시 몰라 일단 DC 파워는 off 시킨 상태이구요.

원인이 정확히 무엇인지 알고 싶습니다.

기타 실험 조건들에 대해서는 아래 적어 놓겠습니다. 확인하시고 답변 주시면 감사하겠습니다.
--> 압력 : 0.5mtorr (Ar 10 sccm), 파워 500W, 온도  240oC, Tilt 각도 : 40 deg, 거리 가변 불가, 5rpm
타겟은 산화물 타겟이며 Al2O3 2wt.% doped ZnO 타겟입니다.
DC 파워는 피에스 플라즈마 SDC1024A 이고 파워 범위는 최대 2kW입니다.

혹 챔버 용량에 비해 가스량이 적으면 문제가 되는 것인지? 아니면 다른 문제인지..알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78047
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20850
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57738
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93636
79 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22972
78 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23148
77 CCP/ICP , E/H mode 23175
76 No. of antenna coil turns for ICP 23175
75 고온플라즈마와 저온플라즈마 23232
74 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23302
73 DC glow discharge 23307
72 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23371
71 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23496
70 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23533
69 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23851
68 Arcing 23932
67 plasma and sheath, 플라즈마 크기 24019
66 플라즈마 쉬스 24030
65 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24137
64 self Bias voltage 24193
63 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24248
62 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24422
61 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24490
60 플라즈마가 불안정한대요.. 24553

Boards


XE Login