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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64200
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92 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1611
91 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 1794
90 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1820
89 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1880
88 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1954
87 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2118
86 Plasma etcher particle 원인 [1] 2143
85 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2387
84 PR wafer seasoning [1] 2443
83 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2443
82 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2475
81 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2648
80 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2664
79 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2678
78 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 2882
77 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2892
76 플라즈마 색 관찰 [1] 3076
75 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3086
74 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3122
73 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3510
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