Others RPC CLEAN 시 THD 발생
2018.10.25 14:48
안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.
현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데
두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)
고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.
POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.
현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는 공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.
혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] | 2317 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 12799 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 49615 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 61099 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] | 79282 |
599 |
Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다.
[1] ![]() | 365 |
598 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 371 |
597 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 372 |
596 | 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] | 374 |
595 | 활성이온 측정 방법 [1] | 377 |
594 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 381 |
» | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 382 |
592 | 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] | 385 |
591 |
해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안
[1] ![]() | 388 |
590 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 393 |
589 | Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] | 395 |
588 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 395 |
587 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 399 |
586 | Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] | 402 |
585 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 405 |
584 | Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] | 408 |
583 | 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] | 410 |
582 | RF matcher와 particle 관계 [2] | 414 |
581 |
수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다
[2] ![]() | 417 |
580 | RF 전압과 압력의 영향? [1] | 423 |
제 생각에는 2개의 chamber가 cross talk을 하는 것 같습니다. Rf shield 와 ground 부분의 강화가 필요하지 않을까 합니다만,
경험자 및 전문가의 의견을 기다리겠습니다.